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        1. 產(chan)品(pin)中心/ products

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          • SIGMAKOKI 長工作距(ju)離物(wu)鏡(jing) EPLE-50 EPLE-20
            SIGMAKOKI 長工作距(ju)離物(wu)鏡(jing) EPLE-50 EPLE-20

            SIGMAKOKI 長工作距(ju)離物(wu)鏡(jing) EPLE-50 EPLE-20 長工作物(wu)鏡(jing) / EPL-10 具有(you)無(wu)限遠校正(zheng)功能、齊(qi)焦(jiao)距(ju)離為(wei) 45 mm 的(de)長工作物(wu)鏡(jing),可用(yong)於(yu)同(tong)軸觀察系統和(he)激(ji)光(guang)引(yin)入(ru)光(guang)學系統。 除了(le)對(dui)遠處物(wu)體進行顯(xian)微觀察外,它還(hai)可(ke)以(yi)用(yong)於聚焦可見(jian)激(ji)光(guang)。

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          • SIGMAKOKI 西(xi)格(ge)瑪 長工作物(wu)鏡(jing) EPL-5 EPL-10
            SIGMAKOKI 西(xi)格(ge)瑪 長工作物(wu)鏡(jing) EPL-5 EPL-10

            SIGMAKOKI 西(xi)格(ge)瑪 長工作物(wu)鏡(jing) EPL-5 EPL-10 長工作物(wu)鏡(jing) / EPL-10 具有(you)無(wu)限遠校正(zheng)功能、齊(qi)焦(jiao)距(ju)離為(wei) 45 mm 的(de)長工作物(wu)鏡(jing),可用(yong)於(yu)同(tong)軸觀察系統和(he)激(ji)光(guang)引(yin)入(ru)光(guang)學系統。 除了(le)對(dui)遠處物(wu)體進行顯(xian)微觀察外,它還(hai)可(ke)以(yi)用(yong)於聚焦可見(jian)激(ji)光(guang)。

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          • SIGMAKOKI西(xi)格(ge)瑪 管透(tou)鏡(jing) TL-NIR-1.0X TL-Y3
            SIGMAKOKI西(xi)格(ge)瑪 管透(tou)鏡(jing) TL-NIR-1.0X TL-Y3

            SIGMAKOKI西(xi)格(ge)瑪 管透(tou)鏡(jing) TL-NIR-1.0X TL-Y3 套筒(tong)透(tou)鏡(jing) / TL-VIS-0.5X 用於(yu)可(ke)見(jian)觀察的(de) 0.5x、f=100mm 管透(tou)鏡(jing)。

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          • SIGMAKOKI西(xi)格(ge)瑪 管透(tou)鏡(jing) TL-VIS-0.5X TL-Y4
            SIGMAKOKI西(xi)格(ge)瑪 管透(tou)鏡(jing) TL-VIS-0.5X TL-Y4

            SIGMAKOKI西(xi)格(ge)瑪 管透(tou)鏡(jing) TL-VIS-0.5X TL-Y4 套筒(tong)透(tou)鏡(jing) / TL-VIS-0.5X 用於(yu)可(ke)見(jian)觀察的(de) 0.5x、f=100mm 管透(tou)鏡(jing)。

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          • SIGMAKOKI 半導體激(ji)光(guang)支(zhi)架 LDH3-635-4.5
            SIGMAKOKI 半導體激(ji)光(guang)支(zhi)架 LDH3-635-4.5

            SIGMAKOKI 半導體激(ji)光(guang)支(zhi)架 LDH3-635-4.5 可見(jian)半導體激(ji)光(guang)支(zhi)架/LDH3-405-3.5 本產(chan)品(pin)的(de)鏡(jing)架(MHL-25.4S)內(nei)置(zhi)有半(ban)導體激(ji)光(guang)器(LDU33)。激(ji)光(guang)束的(de)方向(xiang)可(ke)以(yi)精確調(tiao)整(zheng)。

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          • SIGMAKOKI 半導體激(ji)光(guang)支(zhi)架 LDH3-405-3.5
            SIGMAKOKI 半導體激(ji)光(guang)支(zhi)架 LDH3-405-3.5

            SIGMAKOKI 半導體激(ji)光(guang)支(zhi)架 LDH3-405-3.5 可見(jian)半導體激(ji)光(guang)支(zhi)架/LDH3-405-3.5 本產(chan)品(pin)的(de)鏡(jing)架(MHL-25.4S)內(nei)置(zhi)有半(ban)導體激(ji)光(guang)器(LDU33)。激(ji)光(guang)束的(de)方向(xiang)可(ke)以(yi)精確調(tiao)整(zheng)。

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          • SIGMAKOKI 波長物鏡(jing) PFL-50-UV/NUV-AG-A
            SIGMAKOKI 波長(chang)物(wu)鏡(jing) PFL-50-UV/NUV-AG-A

            SIGMAKOKI 波長(chang)物(wu)鏡(jing) PFL-50-UV/NUV-AG-A 3 波長(chang)物(wu)鏡(jing) (PFL-UV/NUV-AG) 該物鏡(jing)可用(yong)於(yu)3波(bo)長脈(mai)沖(chong)激(ji)光(guang)加工設備(bei):YAG的(de)2次(ci)諧(xie)波(bo)(532nm)、3次(ci)諧(xie)波(bo)(355nm)和(he)4次(ci)諧(xie)波(bo)(266nm)。通(tong)過三個 YAG 波長實(shi)現(xian)高(gao)透(tou)射率(lv)。 它具(ju)有(you)長工作距(ju)離 (WD) 並(bing)可校(xiao)正(zheng)場曲,使(shi)您能夠(gou)獲(huo)得壹直到視(shi)場邊緣的(de)自然(ran)觀察圖像(xiang)。

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          • 日本 SIGMAKOKI 波(bo)長(chang)物鏡(jing) PFL-10-UV/NUV-AG
            日本 SIGMAKOKI 波(bo)長(chang)物鏡(jing) PFL-10-UV/NUV-AG

            日本 SIGMAKOKI 波(bo)長(chang)物鏡(jing) PFL-10-UV/NUV-AG 3 波長(chang)物(wu)鏡(jing) (PFL-UV/NUV-AG) 該物鏡(jing)可用(yong)於(yu)3波(bo)長脈(mai)沖(chong)激(ji)光(guang)加工設備(bei):YAG的(de)2次(ci)諧(xie)波(bo)(532nm)、3次(ci)諧(xie)波(bo)(355nm)和(he)4次(ci)諧(xie)波(bo)(266nm)。通(tong)過三個 YAG 波長實(shi)現(xian)高(gao)透(tou)射率(lv)。 它具(ju)有(you)長工作距(ju)離 (WD) 並(bing)可校(xiao)正(zheng)場曲,使(shi)您能夠(gou)獲(huo)得壹直到視(shi)場邊緣的(de)自然(ran)觀察圖像(xiang)。

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          • 日本 SIGMAKOKI 西(xi)格(ge)瑪 反射物鏡(jing) OBLR-20A
            日本 SIGMAKOKI 西(xi)格(ge)瑪 反射物鏡(jing) OBLR-20A

            日本 SIGMAKOKI 西(xi)格(ge)瑪 反射物鏡(jing) OBLR-20A 反射(she)物(wu)鏡(jing)/OBLR-30A 該物鏡(jing)由反(fan)射(she)鏡(jing)構成,不(bu)受(shou)玻(bo)璃折射(she)率(lv)引(yin)起的(de)色差(cha)影(ying)響(xiang),因(yin)此(ci)可(ke)在(zai)350nm至7μm的(de)寬波長(chang)範(fan)圍內使(shi)用。 它可(ke)用(yong)於顯微光(guang)譜(pu)和(he)半導(dao)體失效分析(xi)。

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          • 日本 SIGMAKOKI 西(xi)格(ge)瑪 反射物鏡(jing) OBLR-30A
            日本 SIGMAKOKI 西(xi)格(ge)瑪 反射物鏡(jing) OBLR-30A

            日本 SIGMAKOKI 西(xi)格(ge)瑪 反射物鏡(jing) OBLR-30A 反射(she)物(wu)鏡(jing)/OBLR-30A 該物鏡(jing)由反(fan)射(she)鏡(jing)構成,不(bu)受(shou)玻(bo)璃折射(she)率(lv)引(yin)起的(de)色差(cha)影(ying)響(xiang),因(yin)此(ci)可(ke)在(zai)350nm至7μm的(de)寬波長(chang)範(fan)圍內使(shi)用。 它可(ke)用(yong)於顯微光(guang)譜(pu)和(he)半導(dao)體失效分析(xi)。

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